性能特点：
l高灵敏度光学平台：采用前沿光散射技术，可精准识别并计数微小至微米级的颗粒。
l多通道粒径分析：内置8个粒径分析通道，实时捕获从2µm到75µm的颗粒分布，为污染溯源与工艺控制提供数据基础。
l零污染设计：整体遵循无脱落、无出气原则，杜绝二次污染，满足超高洁净度要求。
l精确定位与实时监测：可安装在非腐蚀性工艺腔体或其真空排气管路中，可在实际工艺条件下连续、实时监测颗粒产生情况。
l趋势分析：具有数据可视化功能，可生成实时与历史的颗粒浓度趋势图。用户可直观观察污染事件、周期性变化与长期趋势，将原始数据转化为可指导行动的深度洞察，实现预测性维护。
l分级权限控制系统：设立五级管理权限，确保系统设置的可靠性与数据完整性。
l应用场景：面向半导体、平板显示、硬磁盘及精密光学镀膜等行业中，因颗粒污染导致良率下降的关键真空工艺环节，包括但不限于刻蚀、沉积（PVD/CVD）、离子注入及真空镀膜等设备的非腐蚀性内腔原位监测或其连接管路监测。
技术参数：
l粒径范围：2～75μm
l检测原理：光散射法
l通道数量：8个
l检测区域尺寸：8×40mm
l准确度：≥80%
l**计数浓度：2000颗粒/min
l零计数水平：≤1 颗粒/5分钟
l工作压力范围：10⁻⁷mbar~6bar
l系统供电：AC 220V,50Hz
l工作温度：10~50℃
l法兰尺寸：CF50
